勉強記録10/28‐ リソグラフィ言語学②

今日の勉強時間 13H
<内訳>
〇ビデオ講座 2H

0787_トライアルレビュー(D-7)
2089_独学力の正体
———-[ビデオを観て考えたこと]———-
訳語決定するまでのプロセスは、
「理系の不思議な日本語」→「意味の通る日本語」であれ、
「英語」→「意味の通る日本語」であれ、
丁寧に調べるという点では変わらないはず。
これまでの講座内で教わってきた調べ方の手法を使えば、昨日の動画のプロセスは自分でも同じことができたはず。出来なかったのは、自分の頭の中ではどこかで日本人の専門家の書いた日本語だからと言うだけで、訳語の決定までの調べものプロセスをおろそかにしてしまっていたのだと思った。→ここが反省点

ただ講座内で新たに学べたことは、
「明細書に書かれている日本語がすべて正しいわけではない」と言うこと。
専門家が使っているから自分も使って良いのかなと思ってしまっていたので、
ここに疑問を持つ、これを勉強素材として使えると言うのは新たな気付きだった。
(もちろん違和感を感じても、使用例が多ければ業界用語として採用する手もあると言うことも)
[じゃあどうするか]
・講座の手法を引き続き実践してものにする
・疑問に感じた点は一つ一つ丁寧に調べていくプロセスをおろそかにしない
(英文・和文とも)
—————————–
〇リソグラフィについて和訳明細書分析/訳 5.5H 400word

この業界にはASML社(業界No.1)特有の用語が存在するような気がしてきました。
例えば、”patterning device”と言うワード。

明細書における使用例の9割がASML社です。(google patent検索結果)
ちなみに、マスクやレチクルと言ったパターン形成に使われる
光の透過面と遮光面を有する基板の総称として使われております。
patterning deviceの日本語訳が色々あるのですが、調べた中では以下の例がありました。
”パターニングデバイス”
”パターン形成デバイス”
”パターニング装置”
”パターン形成装置”

うーん….

・~装置
patterning deviceは、マスクやレチクルのことを指しているわけなので、
装置と言えるほどの規模ではない気がします。

・~デバイス
デバイスは、電子部品などの構成部品として使われるワードなので違和感があります…。

・ちなみに日本語でマスクやレチクルの総称を何というのか?
どうやら”原版”と言うようです。
「マスクなどの原版」と言う用例が多く出てきます。

・さてどうするか
本来であれば、原版と訳した方が良いのではないかと思います。
(ただ、和訳が「原版」となっている際の英語はstencilやplateなので、
ダメだしをされるかもしれません。)
既に大分広まっている今の状況なら「パターニングデバイス」でも良いのかなと思います。パターン形成デバイスと訳語を作ってもおそらく意味は通りますが、業界内ではpatterning deviceは公知の用語でしょうから原文に合わせたいと思います。
『マスクやレチクルなどのpatterning device』のように大抵前後に説明がされていますし。

〇Varianシリーズ 95-98 3.5H
〇特許頻出フレーズ 集め 1H

明日やること
・リソグラフィ明細書の分析
・Varianシリーズ
・ビデオ講座の視聴(トライアルシリーズ)

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