今日の勉強時間 12H
＜内訳＞
〇ビデオ講座 1.5H
2091_理系の訳語選択レベル
また出来てないことがある…。他の講座内でも言っていたことなのに出来ていなかったのは実際にその時試しでも良いから手を動かしていなかったからかな。
９割くらいの作業は一緒にやっている又はその時はメモって後でやっている自信はあるんだけど、抜けている…。
今継続して見ている明細書シリーズもそうだけど、もっともっと集中。
〇リソグラフィについて
・和訳明細書分析・調べもの 9H
構造、現象について（マスク・マスクブランクス・ナノインプリント
・放射光・自由度など）
コロケーション（射出光・照射・投影など） 他
・昨日話題に挙げたpatterning deviceのつづき
patterning device=マスクやレチクルの総称についての問題ですが、
元々マスクのみがパターン形成に使われていたところに、スキャナが誕生し
レチクルが使われるようになったことで、マスクとレチクル両方が混在する
ようになったことが問題の原因かなと思います。
patterning deviceにちょうど合う日本語の総称ってないんですよね。
マスクメーカやリソグラフィ関連の本含めて色々と調べても色んな言葉が飛び交っているので。（ちなみに英語でも同じ問題が起こっています）
レチクルもマスクと言えばマスクなのに、従来のマスク(ステッパ用)のことを
マスクと呼ぶため、総称としてマスクと呼ぶことがちょっとやりづらくなって
しまっているということかと。
色々と調べましたが、今日の結論としては、patterning deviceは
「パターン形成用マスク」に落ち着かせます。deviceをmaskとしてしまっているので、実際にこのように訳すときは先方と要相談ではありますが。
昨日の結論であった「原版」はキヤノンなどで、「原版（マスク又はレチクル）」と
多用されてはいましたが、「原版」と言うワードの持つニュアンスからマスクの
元の版と考えさせてしまう可能性があるかなと。
「パターン形成用マスク」は大日本印刷で主に使用例のあった名称で、
調べた中で今のところ一番しっくりくるかなと思っています。
ちなみに英訳するならpatterning maskが良いのではないかなと思います。
信越やTSMC他も使用していますし、別のものを指していることにはならないでしょう。
IBMはパターンがエッチングされた上層レジストのことをpatterning mask
とよく使用していますが、それについてはpatterned maskを使った方が良いのではないかな？
と思います。Applier Materials他使用例アリです。
〇Varianシリーズ 99‐100 1.5H
明日やること
・リソグラフィ明細書の分析 →だらだら無駄な時間をかけない！
・Varianシリーズ
・ビデオ講座の視聴（トライアルシリーズ）
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