勉強記録10/9‐ 単調な文章こそ気を引き締めて

今日の勉強時間 13.5H
<内訳>
〇講座視聴 1本 0.5H

2050_情報収集の難しさ
2051_勉強の基本は独学である

〇ボッシュ圧力センサ(薄膜形成方法)見直し 2.5H
・請求項を簡単に書いてみる
やってみると、3つほど抜けてしまった請求項があって、
そこは確かに消化しきれていない箇所でした。
改めて対応箇所を読んで思ったのが、図を元に説明する箇所は
あまり文章も難しくなく、単調な文章が続くので、気を抜きがちに
なるのかなと。
だからこそ前後との関係をきちんと確認しながら読み進めるべきだった
と思いました。
ガスクロでもそうですが、「サンプルをAで貯めてガスの向きを変える。」
と言った文章があったとき、「うんうん、そうね。図をみて確かにそうなって
るね。訳もちゃんとできてるわ。」
で終えてしまってはいけないということです。
「何で貯めるんだったけ」とか「さっきはこっち方向だったのになぜ向きを
変えるんだったかな」とか「?」を浮かべながら読む。
理解の確認、ひいては訳ミス防止に繋がるのではないかと思います。
単調な時こそ、気を抜かない。

〇圧電セラミックス関連情報収集+日本語明細書読む 4.5H
次対訳を取ろうと考えている明細書が
圧電素子の放電を低コストで実現する方法に関するものなので、
関連特許をまとめて、読み始めました。

〇Varianシリーズ 3H
Varian-GC/MS特許を読む 28-34

〇はじめての半導体ドライエッチング技術 読解+ノートまとめ 1.5H
・Low-kエッチングについて
デュアルダマシンCu配線プロセスにおいて、従来の酸化膜に代わって
使われるようになった絶縁膜がLow-k膜です。詳細は明日に。

〇半導体製造装置(前田先生の本)・薄膜の本 読書 1H

明日やること
・引き続き対訳
・Varianシリーズ
・ビデオ講座視聴(トライアルシリーズ)

コメントを残す

メールアドレスが公開されることはありません。 * が付いている欄は必須項目です

このサイトはスパムを低減するために Akismet を使っています。コメントデータの処理方法の詳細はこちらをご覧ください