今日の勉強時間9.6H （主に講座視聴と関連明細書速読）
関連する明細書は、以下の通り。
レジスト・リソグラフィ関係明細書印刷 8件
・東レ
・東京応化
・富士フィルム
・ニコン
・東京エレクトロン
・信越化学工業
・ルネサスエレクトロニクス
内、類似していたレジスト関係3件については
Mindmapに背景技術と課題と発明内容をまとめました。
まとめてみると今読んでいるIBMの特許とのつながりがすごい！
頭の中に情報をどんどん蓄積していくことも大事だけど、
まとめる作業も定期的に入れないといけないなと思いました。
＜今日勘違いしたところ＞
Most photoresists utilized in bilayer processing techniques
are silicon-containing derivatives of conventional lithographic materials
such as chlorinated or chloro methylated styrenes,
hydroxy styrenes,
methacrylate derivatives
or novolac resins
with a photosensitive compound added as a separate component or incorporated into the polymer chain.
withはノボラックレジンにしか掛からないと勘違いしました。
意味を理解していればこんな訳にはならないはずなんだけど。
レジストは、感光体＋ポリマー・樹脂で構成されているから、
ノボラックレジン以外の化合物名が、ポリマーだとわかればきちんと訳せたのだと思う。まだまだだ。
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